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產(chǎn)品分類
光刻膠SPR955 MEGAPOSIT SPR955-CM系列光刻膠是一種通用的、高分辨率的i-Line光刻膠,可用于0.35µm的前端和后端應用。也與底層膠LOR/PMGI-SF搭配,做lift-off 工藝
AZ1500系列G線光刻膠高感光度標準G線正型光刻膠 為廣泛應用于半導體制造領域而優(yōu)化的高感光度G線正型光刻膠 特征: 1) 高感光度,高產(chǎn)出率 2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進 3) 廣泛應用于*半導體行業(yè)
AZ1500系列G線光刻膠高感光度標準G線正型光刻膠 為廣泛應用于半導體制造領域而優(yōu)化的高感光度G線正型光刻膠 特征: 1) 高感光度,高產(chǎn)出率 2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進 3) 廣泛應用于*半導體行業(yè)
AZ1500系列G線光刻膠高感光度標準G線正型光刻膠 為廣泛應用于半導體制造領域而優(yōu)化的高感光度G線正型光刻膠 特征: 1) 高感光度,高產(chǎn)出率 2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進 3) 廣泛應用于*半導體行業(yè)
AZ1500系列i線光刻膠高感光度標準G線正型光刻膠 為廣泛應用于半導體制造領域而優(yōu)化的高感光度G線正型光刻膠 特征: 1) 高感光度,高產(chǎn)出率 2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進 3) 廣泛應用于*半導體行業(yè)
shipley s1813光刻膠 S1800系列, 正膠、紫外光刻膠。 光源推薦:g-Line,也可以用于寬譜。 單層厚度:0.4-2.7um。 型號: S1805 G2/S1813 G2/S1818 G2 應用: 應用于濕法腐蝕和干法刻蝕,也與底層膠LOR搭配,做lift-off 工藝。
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