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簡要描述：是Quorum的市場較好的濺射和碳涂層機系列的*新版本。它們越來越多地用于高分辨率顯微鏡，其中包括超細涂層。范圍更廣的是SC7620，這是一款緊湊的入門級SEM濺射鍍膜機，可提供可選的碳纖維蒸發(fā)附件
產(chǎn)品型號：SC7620 廠商性質：代理商更新時間：2025-07-01訪 問 量：4090產(chǎn)品分類
詳細介紹
| 濺射鍍膜機和SEM /TEM碳鍍膜機 |
| Quorum濺射鍍膜機 |
| 濺射鍍膜機簡介 濺射鍍膜機和SEM / TEM碳鍍膜機 Q Plus系列 是Quorum的市場較好的濺射和碳涂層機系列的*新版本。它們越來越多地用于高分辨率顯微鏡，其中包括超細涂層。 濺射鍍膜是在掃描電子顯微鏡（SEM）上進行觀察之前制備不導電或導電不良的標本的標準方法。Quorum提供低成本，旋轉泵浦濺射鍍膜機，用于沉積非氧化金屬（例如金（Au）和鉑（Pt））以及渦輪分子泵鍍膜機，適用于氧化和非氧化金屬（例如鉻（鉻）。 為了提供改進的超細涂層，Quorum推出了NEW Q150V Plus，該產(chǎn)品可提供1 x 10 -6 mbar 的極限真空度，以提供出色的效果。 大腔室濺射鍍膜機可用于直徑*大為200 mm的樣品。大多數(shù)Quorum涂層機也可以配置為使用易更換的碳棒和碳纖維插件進行碳蒸發(fā)。 選購說明： Q150V是適合于高真空應用。這款新產(chǎn)品使用戶能夠生產(chǎn)出更細的晶粒尺寸和更薄的涂層，以用于超高分辨率應用（放大倍數(shù)達20萬倍）。 Q150T Plus涂布機適用于SEM，TEM和許多薄膜應用。它有三種形式：作為濺射鍍膜機，碳鍍膜機，或在單個緊湊系統(tǒng)中同時進行濺射和碳蒸發(fā)。 Q150R Plus涂布機適用于使用非氧化性金屬的W-SEM濺射應用，以及適用于EDS和WDS的碳涂層SEM標本。 對于較大的樣品，Q300T T Plus（渦輪分子泵）型號允許涂覆單個*大直徑為8“ / 200 mm的大直徑樣品（例如晶片），或多個直徑相似的較小樣品。兩個都具有三個濺射頭確保涂層均勻沉積。 對于薄膜應用，Q300T D Plus雙靶順序濺射鍍膜機可連續(xù)濺射金屬層，而無需破壞真空。 該Q150 GB是Q150T的模塊化版本ES涂布機設計集成到一個手套箱。 范圍更廣的是SC7620，這是一款緊湊的入門級SEM濺射鍍膜機，可提供可選的碳纖維蒸發(fā)附件 |
| SC7620迷你濺射鍍膜機 SC7620是一款緊湊型入門級SEM濺射鍍膜機。當與可選的SC7620-CF碳纖維蒸發(fā)附件結合使用時，它是理想的低成本SEM濺射和碳涂層系統(tǒng)封裝。此外，SC7620標配帶輝光放電功能，使其非常適合碳涂層TEM網(wǎng)格的親水化或“潤濕”以及其他表面改性。 主要特征
對于大多數(shù)FE-SEM應用所需的額外細晶粒涂層，需要高真空涂層-請參見Q150T或Q300TT。 有關用于W-SEM應用的全自動涂布機，請參見Q150R。 這些產(chǎn)品僅供研究使用。 操作簡便 SC7620是理想的易于使用的儀器，是一款性價比高的設備。專為常規(guī)應用而設計，SC7620使用基本的磁控濺射頭和易于更換的圓盤靶（金/鈀為標準）。濺射頭采用鉸鏈連接，易于操作，并配有電氣安全聯(lián)鎖裝置。面板安裝開關可在濺射鍍膜和輝光放電模式之間切換系統(tǒng)。 為防止意外損壞，高壓導線被屏蔽。等離子電流可通過使用氬氣泄漏閥調(diào)節(jié)真空度并預先設置等離子電壓來改變。為了獲得*大的濺射鍍膜效率，氣體噴射器系統(tǒng)可確保氬氣進入腔室的位置接近等離子體放電。排氣是氬氣。 真空要求需要合適的旋轉真空泵。為此，Pfeiffer DUO 6 5 m 3 / hr兩級旋轉真空泵是理想的選擇。請參閱：訂購信息以獲取更多詳細信息。快速的循環(huán)時間，高度可調(diào)的樣品臺 直徑100毫米/ 4英寸的耐熱玻璃圓柱體安裝在鋁制軸環(huán)上，并用O型圈密封。較小的真空室尺寸意味著抽氣時間和循環(huán)時間都很快，并且還允許使用小型經(jīng)濟型旋轉泵。 樣品臺是可調(diào)節(jié)高度的，可以很容易地卸下以容納更高的樣品。沉積速率由分辨率為15秒的180秒計時器手動控制。壓力和等離子電流由模擬儀表監(jiān)控。 濺射和SEM碳涂層（可選） SC7620將沉積適用于鎢絲SEM的涂料，并且具有操作簡單，確保可靠性和適用于一般用途的優(yōu)點。可以通過添加可選的碳蒸發(fā)附件將其快速轉換為沉積碳，該附件包括可切換的電壓電源和碳纖維頭。 輝光放電（親水化）前面板上的三向開關可將SC7620切換到輝光放電模式。新鮮制得的透射電子顯微鏡（TEM）碳支撐膜傾向于具有疏水性表面，該疏水性表面阻礙了TEM切片從水浴表面收集，并阻止了顆粒懸浮液在負污染溶液中的擴散。因此，在用空氣進行輝光放電處理之后，可以使碳膜親水并帶負電荷，從而可以收集TEM截面并易于分散水懸浮液。 |
| Q150V Plus適用于高真空應用中的超細涂層 Q150V Plus針對高真空應用進行了優(yōu)化，極限真空度為1x10 -6 mbar。結合使用寬范圍的Penning / Pirani量規(guī)，可以濺射具有超細晶粒尺寸的氧化金屬，適用于高分辨率成像。較低的壓力從腔室中除去了氧氣和水蒸氣，避免了濺射過程中的化學反應，否則可能導致涂層中的雜質或缺陷。類似地，較低的散射允許高密度的高純度無定形碳膜。Q150V Plus具有Q150T Plus的所有優(yōu)點，但具有更細的晶粒尺寸和更薄的涂層，適用于超高分辨率應用（放大倍數(shù)200,000）。 |
| Q150R Plus-旋轉泵式涂布機 Q150R Plus適用于Tungsten / LaB6 SEM和臺式SEM。 Q150R Plus提供三種格式： 濺射 （Q150R Plus S） 碳纖維蒸發(fā)（Q150R Plus E） 濺射和碳線蒸發(fā)（Q150R Plus ES） |
| Q150T Plus-渦輪分子泵鍍膜機 Q150T Plus經(jīng)過優(yōu)化，可與渦輪分子泵配合使用，從而將真空度降低至5 x 10-5 mbar。 Q150T Plus提供三種格式： 用于非氧化性金屬的自動濺射鍍膜機（Q150T S Plus） 用于SEM應用（Q150T E Plus）的自動碳涂層機（棒/繩） 能夠同時進行濺射和碳涂層的組合系統(tǒng)（Q150T ES Plus） |
| Q150 GB渦輪泵濺射鍍膜機/手套箱用碳鍍膜機 Q150GB是市場的Q150T ES臺式渦輪分子泵涂層系統(tǒng)的模塊化手套箱版本， 適用于SEM，TEM和許多薄膜應用。Q150 GB標配濺射和碳棒蒸發(fā)插件以及旋轉樣品臺。選件包括金屬蒸發(fā)，輝光放電，膜厚測量和特殊的載物臺，以適應各種樣品類型 |
| Q300T D Plus-雙靶連續(xù)濺射，適用于直徑*大為150 mm的樣品 Q300T D Plus適用于兩種材料的多層順序濺射，具有兩個獨立的濺射頭，可以連續(xù)濺射兩種金屬而無需破壞真空。該系統(tǒng)是*自動化的，具有用戶定義的配方，可控制泵送順序，時間，濺射周期數(shù)以及過程中使用的電流。通過在兩個靶材之間循環(huán)，可以依次濺射兩種靶材厚度不限的無限層。不使用時，將目標物關閉以防污染。 |
| Q300T T Plus-三靶濺射鍍膜機，用于*大直徑200mm的樣品 Q300T T Plus是一個大室，渦輪泵送涂層系統(tǒng)，非常適合濺射*大8“ / 200mm的單個大直徑樣品或類似直徑的多個較小的樣品。非常適合薄膜應用和SEM / FE- SEM。它配有三個濺射頭，以確保單個大樣品或多個樣品的均勻沉積 |
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